Hafnium TetrachlordiDe | Hfcl4 порошогу | CAS 13499-05-3 | Заводдун баасы

Hafnium TetrachlordiDe | Hfcl4 порошогу | CAS 13499-05-3 | фабриканын баасы өзгөчөлөнгөн сүрөт

Кыскача сыпаттама:

Хафний тетрахлорид Хафний кычкылы, органикалык синтез, ядролук өтүнмөлөргө жана ар кандай технологиялык талааларда өз ар тараптуу деп аталып, анын ар кандай технологиялык талаалар үчүн маанилүүлүгүн баса белгилөө үчүн маанилүү колдонмолор бар.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Бизге электрондук кат жөнөтүү

Продукциянын деталдары

Продукция теги

Продукциянын сүрөттөлүшү

Кыскача киришүү

Продукциянын аталышы: Hafnium Tetrachloride
Кас №: 13499-05-3
Кошулуучу формула: hfcl4
Молекулярдык салмак: 320.3
Сырткы көрүнүшү: Ак порошок

Мүнөздөмөсү

Нерсе	Мүнөздөмөсү
Көрүнүшү	Ак порошок
HFCL4 + ZRCL4	≥99,9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤60ppm

Колдонмо

Hafnium Dioxide Precursor: Хафний Тетрахлорид, биринчи кезекте, Хафнум диоксиди (Hafnium Dioxide (HFFO2), Диэлектрдик касиеттерин өндүрүү үчүн прекурсор катары колдонулат. HFO2 жарым өткөргүч өнөр жайындагы транзисторлор жана конденсаторлор үчүн жогорку K диэлектрдик колдонмолордо кеңири колдонулат. HFCL4 Hafnium Dioxide үчүн жука фильмдерин түзүү мүмкүнчүлүгүнө байланыштуу алдыңкы электрондук шаймандарды өндүрүү үчүн маанилүү.
Органикалык синтезаттар катализатор: Хафний Тетрахлорид ар кандай органикалык синтез реакцияларынын, айрыкча Olefin полимеризациясынын катализатору катары колдонсо болот. Льюис кислотасынын касиеттери жигердүү ортомчуларды түзүүгө жардам берет, ошентип химиялык реакциялардын натыйжалуулугун жогорулатууга жардам берет. Бул колдонмо химия индустриясында полимерлерди жана башка органикалык кошулмаларды өндүрүүдө баалуу.
Ядролук өтүнмө: Хафний тетрохлориди, айрыкча, өзөктүк тиркемелерде, айрыкча ядролук реакторлордун башкаруу тектеринде кеңири колдонулат. Хафниум нейтрондорду натыйжалуу сиңириши мүмкүн, андыктан ал ядролук энергетикалык муундардын коопсуздугунун коопсуздугун жана натыйжалуулугун жогорулатууга жардам берген татаал материал болуп саналат.
Ичке чөкмө: Хафний тетрахлорид Хафнийге негизделген материалдардын жука фильмдерин түзүү үчүн химиялык буу чөкмөлөрдүн (CVD) процесстеринде колдонулат. Бул тасмалар ар кандай колдонмолордо, анын ичинде микроэлектроника, оптика жана коргоочу жайларда маанилүү. Бирдиктүү, сапаттуу фильмдерди жайгаштыруу мүмкүнчүлүгү HFCL4 Өндүрүш процесстеринде баалуу процесстерде баалуу.