Гафний тетрахлориди | HfCl4 порошок | CAS 13499-05-3 | заводдук баасы

Кыска сүрөттөмө:

Гафний тетрахлориди гафний кычкылынын прекурсору, органикалык синтездин катализатору, ядролук тиркемелер жана жука пленка туташтыруу үчүн маанилүү колдонмолорго ээ, анын ар түрдүү технологиялык тармактарда ар тараптуулугун жана маанисин баса белгилейт.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Бизге электрондук кат жөнөтүү

Продукт чоо-жайы

Продукт тегдери

Продукт Description

Кыскача киришүү

Продукциянын аталышы: Гафний тетрахлориди
CAS №: 13499-05-3
Курама формула: HfCl4
Молекулярдык Салмагы: 320.3
Көрүнүш: ак порошок

Спецификация

пункт	Спецификация
Көрүнүш	Ак порошок
HfCl4+ZrCl4	≥99,9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤60ppm

Колдонмо

Гафний диоксидинин прекурсору: Гафний тетрахлориди биринчи кезекте гафний диоксиди (HfO2), мыкты диэлектрдик касиеттери бар материалды өндүрүү үчүн прекурсор катары колдонулат. HfO2 жарым өткөргүч өнөр жайында транзисторлор жана конденсаторлор үчүн жогорку к-диэлектрдик колдонмолордо кеңири колдонулат. HfCl4 гафний диоксидинин ичке пленкаларын пайда кылуу жөндөмдүүлүгүнөн улам өнүккөн электрондук түзүлүштөрдү өндүрүүдө абдан маанилүү.
Органикалык синтез катализатору: Гафний тетрахлориди ар кандай органикалык синтез реакциялары үчүн катализатор катары колдонулушу мүмкүн, айрыкча олефиндин полимеризациясы. Анын Льюис кислотасынын касиеттери активдүү орто заттарды түзүүгө жардам берет, ошону менен химиялык реакциялардын эффективдүүлүгүн жогорулатат. Бул колдонмо химиялык өнөр жайында полимерлерди жана башка органикалык бирикмелерди өндүрүүдө баалуу болуп саналат.
Ядролук колдонуу: Нейтронду сиңирүү кесилишинин жогору болгондугуна байланыштуу гафний тетрахлориди өзөктүк программаларда, айрыкча өзөктүк реакторлордун башкаруу таякчаларында кеңири колдонулат. Гафний нейтрондорду эффективдүү сиңире алат, ошондуктан ал бөлүнүү процессин жөнгө салуу үчүн ылайыктуу материал болуп саналат, ал өзөктүк энергияны өндүрүүнүн коопсуздугун жана натыйжалуулугун жогорулатууга жардам берет.
Жука пленканы жайгаштыруу: Гафний тетрахлориди гафний негизиндеги материалдардын жука пленкаларын түзүү үчүн химиялык бууларды түшүрүү (CVD) процесстеринде колдонулат. Бул пленкалар микроэлектроника, оптика жана коргоочу каптамаларды камтыган ар кандай тиркемелерде абдан маанилүү. Бирдиктүү, жогорку сапаттагы пленкаларды салуу мүмкүнчүлүгү HfCl4 өнүккөн өндүрүш процесстеринде баалуу кылат.